人生100歳だというが　渡部弘行

SK Hynixは、今月初めにDRAM製造工場の1つで、生産に使用されるジルコニウムhigh-K材料の不純物が原因で問題が発生した。これらの材料はSKトリケムから供給され、これらの不純物のために、SKハイニックスの設備は最終的に一部の生産設備の運転圧力を高め、生産を停止させた。
最終評価の後、SK Hynixは、プラント内のすべての機器を洗浄する必要があり、材料中の不純物のために一部を交換する必要があると結論付けました。
ジルコニウムhigh-K材料は、前駆体としてDRAMコンデンサの上に原子レベルで堆積されます。 この材料に不純物が含まれていると、DRAMチップが故障する可能性がある。
同社は他の2つのサプライヤーから交換材料を一時的に注文し、SKトリケム は今月末までに新しい材料のバッチを供給する予定。
このhigh-Kは２００３年、インテルによって発表されたもので、今のDRAMはHigh-K材料＋Metal Gateの構造となっている。High-K材料層は絶縁膜であり、ここに不純物が混ざるとリークしてしまう。さてSKトリケムはSKマテリアルと日本のトリケムとの合弁会社である。ここではHigh-K材料として(C5H5)Hf[N(CH3)2]3 (HOC)、[(CH3)(C2H5)N]4Zr (TEMAZr)、(i-C3H7O)4Ti(CH3)3Al (TMA)、AlCl3、ランタノイド化合物など様々な材料を提供しているが、今回はTEMAZrが問題を起こしたようだ。この薬品は液体であり、高度な蒸留によって精製される。厳しい品質管理が必要なのだが。