杭州は毎日晴れの天気となっている。きっと外は暑いのだろう。7日で5回の検査をされた。今日などは二回サンプリングされた。そのほかに部屋に入ってきて携帯などからサンプリングしていった。検査に年間33兆円の国家予算が使われているという。もったいない。
Wechatでは私が中国に帰ってきたということで、半導体の石英ルツボをやってくれという要望が来る。しかし、半導体用のルツボは短期間でできるものではない。最低一年くらいの期間がかかるので二の足を踏んでいる。
ドライエッチング用の石英ガラスの評価がすべて終了した。驚くべき結果が再現良く出た。天然石英ガラスは合成石英ガラスより2倍以上のエッチングレートであったため、一回しか評価しなかった。合成石英ガラスを4種類テストした。1.スート法 2.当社合成シリカ1のプラズマ溶融 3.当社合成シリカ2の酸水素溶融 4.直接法の合成である。n数は5であるが、すべて同じ傾向であったので信憑性は高いといえた。エッチングレートが大きい順から次のようになった。
1>2>4>3 当社の合成シリカ粉2の酸水素溶融品が最もエッチングレートが小さかったのだ。この原因を考えてみたのだが、1として表面応力、2として不純物が考えられる。表面応力の違いによってプラズマエッチングレートが一桁違うということが昔から言われている。しかしながら、エッチングの傾向をグラフにすると応力が最も高い表面と内部とのエッチングレートの差はみられなかったのだ。そこで不純物を見てみると、合成シリカ粉2はAl,Ti、Zrが0.1~0.5ppmほど高くしている。ゾルゲル法は不純物は均一となっているため天然のようなに局所的にあるわけではないため、この効果が出たことが推定されるのだが、確かなことはわかっていない。もしこれが真実だとすれば、合成シリカ粉に均一的にドープさせることでもっとエッチングレートを下げることが可能かもしれない。